产品概述：

TFMS-LD是一款反射光谱薄膜测厚仪，可快速精确地丈量通明或半通明薄膜的厚度，其丈量膜厚规模为15nm-50um，仪器所发出测验光的波长规模为400nm-1100nm。此款测验体系理论基础为镜面反射率，并且采用光纤反射探头。仪器尺度细巧，便利于在实验室中摆放和运用。

丈量膜厚规模

• 15nm-50um

光谱波长

• 400 nm - 1100 nm

主要丈量通明或半通明薄膜厚度

• 氧化物

• 氮化物

• 光刻胶

• 半导体（硅，单晶硅，多晶硅等）

• 半导体化合物（ALGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS等）

• 硬涂层（碳化硅，类金刚石炭）

• 聚合物涂层(聚对二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)

• 金属膜

特点

• 丈量和数据剖析同时进行，可丈量单层膜，多层膜，无基底和非均匀膜

• 包括了500多种资料的光学常数，新资料参数也可很容易地添加，支撑多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等

• 体积较小，便利摆放和操作

• 可丈量薄膜厚度，资料光学常数和表面粗糙度

• 运用电脑操作，界面中点击，即可进行丈量和剖析

精度

• 0.01nm或0.01%

准确度

• 0.2%或1nm

稳定性

• 0.02nm或0.02%

光斑尺度

• 标准3mm,可以小至3um

要求样品巨细

• 大于1mm

分光仪/检测器

• 400 - 1100 nm 波长规模

• 光谱分辨率: < 1 nm

• 电源 100 -250 VAC, 50/60 Hz 20W

光源

• 5W的钨卤素灯

• 色温：2800K

• 运用寿命:1000小时

反射探针

• 光学纤维探针，400um纤维芯

• 配有分光仪和光源支架

栽样台

• 丈量时用于放置丈量的样品

通讯接口

• USB接口，便利与电脑对接

TFCompanion软件

• 强大的数据库包括500多种资料的光学常数（n：折射率，K：消失系数）

• 误差剖析和模仿体系，保证在不同环境下对样品丈量的准确性

• 可剖析简略和复杂的膜系

设备尺度

• 200x250x100mm

分量

• 4.5kg